UNIVERSI
TÄ
TS-
BIBLIOTHEK
P
ADERBORN
Anmelden
Menü
Menü
Start
Hilfe
Blog
Weitere Dienste
Neuerwerbungslisten
Fachsystematik Bücher
Erwerbungsvorschlag
Bestellung aus dem Magazin
Fernleihe
Einstellungen
Sprache
Deutsch
Deutsch
Englisch
Farbschema
Hell
Dunkel
Automatisch
Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist
gegebenenfalls
nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich.
mehr Informationen...
Universitätsbibliothek
Katalog
Suche
Details
Zur Ergebnisliste
Datensatz exportieren als...
BibTeX
Plasmastrahlungsquelle für den industriellen Einsatz in der Röntgenlithographie
Richter, Franz
1990
Signatur:
D5568
Details
Autor(en) / Beteiligte
Richter, Franz
Titel
Plasmastrahlungsquelle für den industriellen Einsatz in der Röntgenlithographie
Erscheinungsjahr
1990
Beschreibungen/Notizen
Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1990
Sprache
–
Identifikatoren
OCLC-Nummer: 722276240, 722276240
Titel-ID: 990005486850106463
Format
125 S. : Ill., graph. Darst.
Systemstelle
YGY
Lade weitere Informationen...