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BibTeX
Chemical vapor deposition : principles and applications
Hitchman, Michael L
[Herausgeber]
1993
Signatur:
ZKS1168
Details
Autor(en) / Beteiligte
Hitchman, Michael L
[Herausgeber]
Titel
Chemical vapor deposition : principles and applications
Ort / Verlag
London [u.a.] : Academic Press
Erscheinungsjahr
1993
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISBN: 0123496705
OCLC-Nummer: 727908643, 727908643
Titel-ID: 990006120360106463
Format
V, 677 S. : Ill., zahlr. graph. Darst.
Systemstelle
ZKS
Schlagworte
CVD-Verfahren
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