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Plasma etching and reactive ion etching
American Vacuum Society monograph series
1982
Signatur: ZKP1032

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Plasma etching and reactive ion etching
Ist Teil von
  • American Vacuum Society monograph series
Ort / Verlag
New York, NY : American Inst. of Physics
Erscheinungsjahr
1982
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISBN: 0883184060
OCLC-Nummer: 634734876, 634734876
Titel-ID: 990004510430106463
Format
87 S. : graph. Darst.
Systemstelle
ZKP

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