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Chemical vapor deposition : principles and applications
1993
Signatur: ZKS1168

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Chemical vapor deposition : principles and applications
Ort / Verlag
London [u.a.] : Academic Press
Erscheinungsjahr
1993
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISBN: 0123496705
OCLC-Nummer: 727908643, 727908643
Titel-ID: 990006120360106463
Format
V, 677 S. : Ill., zahlr. graph. Darst.
Systemstelle
ZKS
Schlagworte
CVD-Verfahren

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