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Thin film deposition : principles and practice
Internat. ed, 1995
Signatur: YFC1199

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Thin film deposition : principles and practice
Auflage
Internat. ed
Ort / Verlag
New York [u.a.] : McGraw-Hill
Erscheinungsjahr
1995
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISBN: 0070585024, 0071139133
OCLC-Nummer: 837379322, 837379322
Titel-ID: 990006572140106463
Format
XXIII, 616 S. : Ill., graph. Darst.
Systemstelle
UIU, YFC
Schlagworte
Dünne Schicht, Gasphasenepitaxie, Bauelement, Dünnschichttechnik, CVD-Verfahren

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