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Low pressure chemical vapor deposition of silicon nitride and silicon oxynitride layers and their application in optical waveguide based chemical sensors [Elektronische Ressource]
2007

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Low pressure chemical vapor deposition of silicon nitride and silicon oxynitride layers and their application in optical waveguide based chemical sensors [Elektronische Ressource]
Erscheinungsjahr
2007
Link zum Volltext
Verknüpfte Titel
Beschreibungen/Notizen
  • Paderborn, Univ., Diss., 2007
  • Open Access
Sprache
Englisch
Identifikatoren
URN: urn:nbn:de:hbz:466-2007091835
OCLC-Nummer: 188129590, 188129590
Titel-ID: 990009719670106463
Format
–
Systemstelle
YFC, YFP